Etch/Etcher

Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher/반도체 ICP 에처 장비

Equipment ListPlasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher 안녕하세요.중고 반도체, 연구 장비, 각종 산업 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 새로 매입한 Plasma Therm사의 ICP 에처 장비 입니다.​Plasma Therm의 Versaline 모델은 반도체 제조 공정에서 사용되는 고정밀 플라즈마 에칭 및 증착 장비입니다. 이 장비는 다양한 공정 조건을 설정하여 에칭, 증착, 세정 등의 다양한 공정을 정밀하게 수행할 수 있게 해줍니다. 사용자는 반도체 웨이퍼나 기판을 장비에 로딩하고, 제어 패널을 통해 온도, 압력, 가스 흐름 등 조건을 설정합니다. 다음 플라즈마가 생성되어 기판에 정밀한 패턴을 형성하거나 물질을 증착하게 됩니다...

2025. 1. 21.
Etch/Asher

PSK, ECOLITE II T, Asher Descum (Dual Chamber)/반도체 디스컴 장비, 웨이퍼 잔여물 제거 장비, PR SCUM 제거 공정

Equipment ListPSK, ECOLITE II T, Asher Descum 안녕하세요.중고 반도체, 연구 장비, 각종 산업 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 PKS홀딩스의 ECOLITE 시리즈 DESCUM 장비 입니다.​Descum은 리소그래피 공정 후, 잔여물을 제거하는 공정으로 반도체 패키징의 RDL profile과 bump 모양에 중요한 영향을 주는 공정입니다. ECOLITE 시리즈 장비는 Wafer-level 또는 Panel-level의 반도체 패키징 생산에 있어 다양한 종류의 Descum 및 표면처리 공정에 대한 솔루션을 제공합니다. 표면처리 공정은 패키징 공정에 필요한 필름코팅 전 또는 RDL 에칭 후에 막질 표면의 성질을 개선시키거나 잔류물을 제거함으로..

2025. 1. 13.
Etch/Etcher

Xactix, e 1 Mod, Xenon Difluoride Etching System/반도체 전공정/에칭 장비

Equipment ListXactix, e 1 Mod, Xenon Difluoride Etching System안녕하세요.중고 반도체 장비 및 부품 거래 전문 기업 세미스토리 입니다.새로 매입한 Etching System 장비를 판매하고 있습니다 :)​Xenon Difluoride Etching System 장비는 실리콘을 선택적으로 에칭하는 장비입니다.플라즈마나 전기적 바이오스 없이 기체 상태의 XeF2를 사용해 실리콘을 정밀하게 가공하며 MEMS(Micro Elecro Mechanical System), 반도체, 나노기술 등의 분야에서 활용하는 장비입니다. 높은 선택성 덕분에 실리콘 이외의 물질은 거의 에칭되지 않아 정밀한 공정이 가능한 장점이 있습니다.[​EQUIPMENT SPEC]ID1992400..

2024. 10. 25.
Etch/Asher

Diener Electronic / FEMTO

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2023. 2. 23.
Etch/Asher

JESAGI / JSPES-W21

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2023. 2. 23.
Etch/Etcher

ICP Etcher/TENACIER-400VE

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2022. 12. 7.