WET/Cleaning

AARON Technology Center, AARON Wet Station, Wet Station/반도체 웨이퍼 세정 클리닝 장비, 웻스테이션, 웨트스테이션

Equipment ListAARON Technology Center, AARON Wet Station, Wet Station  안녕하세요.중고 반도체, 연구 장비, 각종 산업 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 당사에서 보유중인 반도체 웨이퍼 WET 장비입니다.(해당 장비는 급매 장비이므로, 저렴한 금액에 장비를 판매하고자 합니다. 가격은 협의로 진행됩니다.)​AARON Technology Center는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 처리 및 세척 기술을 연구하고 개발하는 시설로, AARON Wet Station과 같은 세척 장비를 활용하여 고정밀 세척 및 표면 처리 공정을 최적화합니다. AARON Wet Station은 액체와 화학 물질을 이용해 웨이퍼 표면의 오염물을 제거..

2025. 2. 10.

WET/Cleaning

SESHIN Tech, G450C, ASC-LEC/웨이퍼 표면 자동 세척 장비, 웨이퍼 세정 장비, 웨이퍼 박막 증착 장비

Equipment ListSESHIN Tech, G450C, ASC-LEC(Automatic Surface Cleaning-Low Energy CVD) 안녕하세요.중고 반도체, 연구 장비, 각종 산업 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 당사에서 보유중인 Wet 장비입니다.(해당 장비는 급매 장비이므로, 저렴한 금액에 장비를 판매하고자 합니다. 가격은 협의로 진행됩니다.)​ASC-LEC (Automatic Surface Cleaning-Low Energy CVD) 장비는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면의 오염을 자동으로 제거하는 표면 세척 기능과, 저에너지 환경에서 고품질의 박막을 증착하는 화학 증착(CVD) 기능을 결합하여, 효율적으로 공정 시간을 단축하고 에너지 소비를 ..

2025. 2. 10.

WET/Cleaning

BLE Laboratory Equipment GmbH, Delta36TA, Wafer Mask Cleaner/웨이퍼 마스크 클리너 장비, 반도체 전공정 장비

Equipment ListBLE Laboratory Equipment GmbH, Delta 36 TA, Wafer Mask Cleaner안녕하세요.중고 반도체 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 새로 매입한 BLE Laboratory Equipment GmbH의 Wafer Mask Cleaner 장비 입니다.​Wafer Mask Cleaner 장비는 반도체 제조 공정에서 사용되는 장비로,주로 웨이퍼 제조 과정에서 불순물이나 잔여물을 제거하기 위해 세척하는 장비입니다.​반도체 제조 과정에서 포토마스트(Photomask) 패턴을 웨이퍼에 전사하는데, 공정 중에 먼지나 오염 물질이 붙을 수 있기 때문에 포토 마스크를 세척함으로써 오염 물질 등을 제거합니다. [EQUIPMENT S..

2024. 10. 25.