Etch/Etcher
Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher/반도체 ICP 에처 장비
Equipment ListPlasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher 안녕하세요.중고 반도체, 연구 장비, 각종 산업 장비 및 부품을 거래하는 세미스토리 입니다.오늘 소개해드릴 장비는 새로 매입한 Plasma Therm사의 ICP 에처 장비 입니다.Plasma Therm의 Versaline 모델은 반도체 제조 공정에서 사용되는 고정밀 플라즈마 에칭 및 증착 장비입니다. 이 장비는 다양한 공정 조건을 설정하여 에칭, 증착, 세정 등의 다양한 공정을 정밀하게 수행할 수 있게 해줍니다. 사용자는 반도체 웨이퍼나 기판을 장비에 로딩하고, 제어 패널을 통해 온도, 압력, 가스 흐름 등 조건을 설정합니다. 다음 플라즈마가 생성되어 기판에 정밀한 패턴을 형성하거나 물질을 증착하게 됩니다...
2025. 1. 21.